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东方晶源上新良率优化系统PME，打造半导体智能制造新数据引擎

东方晶源智能良率优化系统PME(Process Margin Explorer)已在客户现场完成部署，考究步入居品考证与评估阶段。当作继ODAS(CD-SEM智能离线数据系统)、YieldBook(详尽良率照拂系统)之后践行HPO(Holistic Process  Optimization)理念落地的又一力作，PME深度融入东方晶源"开拓-数据-算法"三位一体、软硬协同的良率耕作科罚有筹办，成为撬动半导体先进制程良率瓶颈的策略器用之一。

PME居品聚焦以下三大中枢功能：

基于想象领土的检测区域采取与优化；

整合想象领土信息的检测拒绝智能采样与时弊自动分类；

PWQ Wafer检测数据快速认知与论说一键生成。

与此同期，PME居品还配套弘远的底层Pattern Match和Pattern Grouping引擎，简略高效地进行领土分析与处理任务。

基于想象领土的检测区域采取与优化

PME是逢迎芯片想象数据与芯片制造过程时弊数据的关节器用。它使得Fab用户不错依据想象领土信息设立晶圆检测程式，冲破传统检测程式对警戒参数的依赖，PME将想象领土蜕变为"数字卫星导航舆图"，用户不错依据想象领土指定、采取、优化我方的检测程式，使检测区域设立后果结束质的飞跃，显赫耕作检测后果和检测精度。

    

整合想象领土信息的检测拒绝智能采样与时弊自动分类

芯片制造时弊检测中，由于关节时弊在全体时弊中的占比低于3%，在海量误检数据中精确定位关节时弊的难度极高，这也径直导致了复检资本永恒居高不下。在以往的复检取样要领，主要依赖工程师个东说念主警戒与机台保举算法，这种样貌较难复制与调处。而在导入想象领土信息后，基于想象领土的过滤与取样算法，容易结束固定且表率的取样司法，得到调处的取样拒绝，况兼可左证实质需求活泼增设新的取样司法，着实结束智能化取样操作。此外，想象领土信息还简略深度行使于复检时弊的分类责任，极地面拓展了复检时弊分类的维度与信息容量，为工艺调优提供高维决策复旧。

PWQ Wafer检测数据快速认知与论说一键生成

现在，在芯片坐褥经由中，PWQ Wafer被等闲行使于工艺窗口说明和系统性时弊分析等关节要领。关连词，PWQ Wafer的检测拒绝分析却主要依赖工程师东说念主工操作，不仅速率慢、后果低，而且拒绝还有较大的个东说念主警戒依存性。东方晶源PME居品的PWQ分析模块调动经受D2DB(Die-to-Database)工夫，通过想象领土与SEM图像的亚像素级匹配，结束时弊精确定位和自动检出。现阶段PME居品的PWQ分析处明智力，相较于传统的PWQ分析样貌，其分析速率耕作高出10倍以上。这一疏淡性能使得PWQ分析拒绝简略尽可能提前并快速地朝上游响应，有劲地加快了光罩、想象领土以及OPC等关节要领的迭代优化进度，匡助用户尽快结束良率爬升。

    

后续买球下单平台，PME将与东方晶源的电子束检测开拓、量测开拓，计较光刻器用等进行深度集成，构建起一套完满的HPO一体化良率科罚有筹办，为国内晶圆厂客户提供更为全面、高效的工夫复旧，有用应付因先进工艺节点握续鼓舞而带来的制造良率贫苦，为推动国内集成电路产业链结束弯说念超车注入刚毅能源，助力产业在大家竞争方法中占据更为有益的地位。